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蘇州元磁智控取得一種高穩(wěn)定動(dòng)力磁鐵組件專利，有效保持動(dòng)力磁鐵條與磁場(chǎng)產(chǎn)生高效推力:高性能磁鐵
金融界2025年2月24日消息，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，蘇州元磁智控科技有限公司取得一項(xiàng)名為“一種高穩(wěn)定動(dòng)力磁鐵組件”的專利，授權(quán)公告號(hào)CN222515247U，申請(qǐng)日期為2024年7月
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蘇州潤(rùn)佳申請(qǐng)高表面硬度聚丙烯復(fù)合材料專利，具有高的表面硬度及優(yōu)良的力學(xué)性能:高性能磁鐵
金融界2025年5月19日消息，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，蘇州潤(rùn)佳高分子材料有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種高表面硬度聚丙烯復(fù)合材料及其制備方法”的專利，公開號(hào)CN119978611A，申請(qǐng)日期為2024年1
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蘇州佰旻電子申請(qǐng)高阻燃性發(fā)泡棉及其制備方法專利，具有優(yōu)異的阻燃隔熱性能:高性能磁鐵
金融界2025年5月29日消息，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，蘇州佰旻電子材料科技有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種高阻燃性發(fā)泡棉及其制備方法”的專利，公開號(hào)CN120040973A，申請(qǐng)日期為2025年02月高性
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攀鋼集團(tuán)攀枝花鋼鐵研究院有限公司取得高鈦型釩鈦磁鐵礦高爐冶煉減少爐缸中心堆積物的方法專利:高性能磁鐵
金融界2025年3月21日消息，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，攀鋼集團(tuán)攀枝花鋼鐵研究院有限公司取得一項(xiàng)名為“高鈦型釩鈦磁鐵礦高爐冶煉減少爐缸中心堆積物的方法”的專利，授權(quán)公告號(hào)CN116875750B，
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艾維卓斯系統(tǒng)公司申請(qǐng)高性能通信鏈路和操作方法專利，提供安全高性能通信鏈路:高性能磁鐵
金融界2025年5月17日消息，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，艾維卓斯系統(tǒng)公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“高性能通信鏈路和操作方法”的專利，公開號(hào)CN119999173A，申請(qǐng)日期為2023年6月高
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山西交通監(jiān)理咨詢檢測(cè)有限公司取得高性能混凝土抗?jié)B性能檢測(cè)裝置專利:高性能磁鐵
金融界2025年3月18日消息，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，山西交通監(jiān)理咨詢檢測(cè)有限公司取得一項(xiàng)名為“一種高性能混凝土抗?jié)B性能檢測(cè)裝置”的專利，授權(quán)公告號(hào)CN119354853B，申請(qǐng)日期為2024年
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中建八局三公司申請(qǐng)一種輕質(zhì)高性能建筑模板專利，力學(xué)性能強(qiáng):高性能磁鐵
金融界2025年5月22日消息，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，中建八局第三建設(shè)有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種輕質(zhì)高性能建筑模板”的專利，公開號(hào)CN120006934A，申請(qǐng)日期為2025年02月高性能磁鐵。
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天賜材料：近日公司發(fā)布5V體系電解液具備高安全性能與穩(wěn)定性能:高性能磁鐵
證券之星消息，天賜材料(002709)04月18日在投資者關(guān)系平臺(tái)上答復(fù)投資者關(guān)心的問(wèn)題高性能磁鐵。投資者提問(wèn)：天賜最新研發(fā)的5V電解液主要優(yōu)點(diǎn)是穩(wěn)定、耐用、不可燃高性能磁鐵，剛好符合電池新國(guó)標(biāo)
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西安電子科技大學(xué)和北京勤合科技有限公司申請(qǐng)制備熱障涂層的專利，滿足熱障涂層高性能、高穩(wěn)定性的制備要求:高性能磁鐵
金融界2025年5月19日消息，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，西安電子科技大學(xué)和北京勤合科技有限公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“一種制備熱障涂層的電子束物理氣相沉積裝置及制備熱障涂層的方法”的專利，公開號(hào)CN119980
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應(yīng)用材料公司申請(qǐng)用于高密度等離子體強(qiáng)化的處理腔室的對(duì)稱天線陣列專利，提升處理腔室性能:高性能磁鐵
金融界2025年5月19日消息，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，應(yīng)用材料公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“用于高密度等離子體強(qiáng)化的處理腔室的對(duì)稱天線陣列”的專利，公開號(hào)CN119998920A，申請(qǐng)日期為2023年9月高性能